自锁螺母射频溅射是在真空室中，设置两个板极并施加频率在50赫兹以上的高频电，则处于高频电场中的少量电子在高频电场的作用下加速，与气体分子发生碰撞，使气体分子电离而放出电子，这些电子又会被高频电场加速，最终形成高频辉光放电，高频辉光放电的两电极的辉光没有区别，各自有阴极暗区和负辉区，等离子柱在两级之间。高频电源是的输入耦合方式有电容耦合方式和电感耦合方式。

　　平板电极射频溅射的耙通过匹配回路与射频电源相连。当溅射装置内的布置变化时，适当调整匹配回路，使放电阻抗与电源阻抗相匹配，可有效地输入射频功率，为了使放电区限制在耙与基片之间，在沿着垂直于耙的方向上加磁场，延长电子的运动距离，提高放电电流。两级间等离子区的离子轰击耙表面产生溅射，溅射原子在基片上沉积形成膜层。

　　另外自锁螺母之，射频溅射中，通常基片和真空室接地电位，即使有离子轰击基片时，因基片和真空室的总面积远远大于耙的面积，这就分散了离子轰击基片的粒子流密度，使基片上的反溅射作用降低到很低，从而可以沉积获得膜层。

　　(摘自于表面处理手册)