活性反应离子镀的离化率较高，适用于反应沉积，在较低温度下即可得到附着性能良好的碳化物。

　　调节和改变蒸发速率及反应气体的压力，可以十分方便地制取同类化合物，但是有不同配比和不同性质的镀层。由于电子束蒸发源功率大，功率密度高，几乎可以蒸镀所有的高熔点金属和化合物，而且沉积速率高，热阴极离子镀是由热灯丝引出的高密度等离子电子束加热蒸发镀膜材料的镀膜方法。热阴极枪室置于镀膜室的顶端，热阴极枪室内的单丝作为热阴极，镀膜材料放在坩埚中作为阳极，枪室的下端有一差压孔与镀膜室相通，使镀膜室与热阴极枪室形成气压差。

　　自锁螺母蒸发的镀膜材料原子在经过等离子电子束时被电离和形成高能中性粒子，沉积于基片形成膜层，热阴极等离子电子束是高密度的低能电子束，它即作为蒸发源，又是离化源。

　　(摘自于表面处理手册)