基片偏压，离子镀膜基片施加负偏压后，各种离子和高能中性粒子流以较高的能量轰击基片表面，基片负偏压的提高，会使基片表面获得更高的能量，可能形成伪扩散层，提高膜层与基体的附着力，还可以改变膜层的组织。结构和性能，如细化晶粒。

　　随着基片负偏压的提高，膜层组织变细，但是基片负偏压的提高也会产生一些不利的影响，如反溅射作用的增加，使膜层表面受到刻蚀，使表面光洁程度降低，因此应根据不同的离子镀方法、不同的膜层及使用要求选择适当的基片负偏压。离子镀膜真空度对膜层组织、性能的影响与真空蒸镀时的影响规律相似。但反应气体分压对反应离子镀制化合物的成分、结构和性能有直接的影响。

　　基片温度。离子镀膜基片温度的高低直接影响着膜层的组织、结构和性能。一般情况下，温度的增高有利于提高膜层与基片的附着力，有利于改善膜层的组织和性能，但是，温度过高，则会使沉积速率降低，有时还会使膜层晶粒粗大。

　　(摘自于表面处理手册)