化学气相沉积工艺装置主要由反应室、供气系统和加热系统组成。反应室是CVD中最基本的部分，常采用石英管制成，其壁可分为热态和冷态。

　　在室温下，进行化学气相沉积的原料不一定都是气体，如果源物质有液态原料，需加热形成蒸汽或气态反应剂反应，形成气态物质导入沉积区，由载流气体携带入炉;如果源物质有固体原料，一般是通过一定的气体与之发生气—固或气—液反应，形成适当的气态组分，将产生的气态组分输送入反应室，在这些反应物载入沉积区之前，一般不希望它们之间相互反应，因此，在低温下会相互反应的物质在进入沉积区之前应隔开。

　　前两种类型是反应器壁和原料都不加热，即所谓的冷壁反应器，一般地，这类反应器的反应物在室温下是气体或者具有较高蒸汽压的物质;后两种类型的原料区和反应器壁是加热的，即所谓的热壁反应器，反应器的加热是为了防止反应物的冷凝。

　　(摘自于表面处理手册)