近年来，随着电子和控制技术的发展，脉冲技术逐渐应用到3种传统的薄膜的蒸发源上来，各种粒子源都进行脉冲化的探索，蒸镀尝试采用激光脉冲作为蒸发源，这种技术被称为PLD，采用高能激光脉冲，照射被蒸镀材料，使材料气化蒸发，获得高动能的粒子。

　　溅射技术和多弧离子镀也都采用脉冲的方式。近年来最新的研究成果表明，脉冲的引入能够稳定溅射的进程，通过加入一个频率为20~200赫兹的脉冲，电弧在溅射中可以被完全抑制，因此，有些不稳定的反应溅射就能够顺利地进行。如在氩气和氧气混合气体中，采用铝作为耙材进行沉积时，引入脉冲后，溅射反应可以在一种长时间的、高速的、稳定的状态下完成，即使在工业应用的规模上也是如此。

　　离子镀技术中，脉冲技术也开始在有些沉积方法中采用，如多弧离子镀就出现了采用脉冲沉积的研究。采用脉冲方法的优点不仅是可以通过调节脉冲频率控制沉积速率，而且如果结合多种被蒸发物质，还可以方便地获得多层复合膜。本文章整理于上海底特精密紧固件有限公司，上海底特专业生产施必牢防松螺母，具有可靠的抗震防松性能。

　　(摘自于表面处理手册)