溅射技术出现后，尤其的磁控溅射出现后，非平衡和平衡磁控技术得到了充分的应用。但是，之后的的一段时间里，技术发展出现了停顿，同以往的溅射方法相比，虽然溅射的效率大大提高了，但是。仍然不能够溅射出来的大量原子传输到一个比较远的沉积空间中去，因为溅射出来的粒子，大多是以中性原子的方式存在的，不可能像等离子体中的离子那样，在电子的约束下，通过电场或者磁场的约束传输的很远。

　　中性原子经过为数不多的同反应气体或者背底气体的碰撞，能量就大大降低了，这既不利于原子向更远处扩散，又减小了原子的活性，不利于基片上膜层的形成，也削弱了膜层与基片的结合力，通过改进磁控溅射的磁结构，达到了增加中性原子电离的目的，提高了溅射空间和效率。

　　闭环磁场非平衡磁控溅射的技术关键在于，在这整个腔体中存在着环形磁场，环形磁场对二次电子同样起到束缚作用，使得电子逃出阴极耙材表面的平行磁场的陷阱后又落入了闭环磁场的陷阱。本文整理于上海底特公司，本公司生产的自锁螺母可显著地提高螺母及螺栓的使用寿命。

　　(摘自于表面处理手册)