自锁螺母离子镀技术适用于物理气相沉积的基体材料和膜层材料。金属、玻璃、陶瓷和塑料等均可以作为基体材料。膜层材料可以是纯金属、合金或化合物。而且可以获得单晶、多晶、微晶或非晶结构的薄膜。

　　物理气相沉积技术之离子镀所有方法的工艺过程可以分为3步：第一步是成膜材料的气化，即成膜材料的蒸发、升华、被溅射、分解，也就是成膜材料的源;第二步为成膜原子、分子或离子从源到基片的迁移过程，在这一过程中粒子间可能发生碰撞，产生离化、复合、反应、能量的变化和运动方向的改变等一系列复杂过程;第三步是成膜原子在基片表面的吸附、堆集、形核和长大成膜。

　　物理气相沉积自锁螺母之离子镀技术具有工艺简单，省材料，无污染，膜层厚度均匀，膜层致密、与基体材料附着力强等特点，且工艺过程中温度低，工件畸变小，不会产生退火软化，一般不需进行再加工。

　　(摘自于表面处理手册)