自锁螺母在辉光放电中，离子轰击阴极产生二次电子，电子在阴极位降区的电场作用下被加速与气体分子碰撞，使气体分子电离维持放电。由于电子在电场加速的轨迹是直线，所以碰撞电离几率不高，辉光熄灭。但是，如果在与电场垂直的方向施加一磁场，电子在正交电磁场中的运动轨迹则为既与电场垂直又与磁场垂直的摆线，

　　在实际的磁控条件下，从冷阴极发射出来的电子具有初始能量，并且阴极暗区的电场和磁场都是不均匀的，所以，从阴极发射出的电子的运动轨迹不是严格的摆线形，一般称为近似摆线运动。磁控溅射耙是磁控溅射镀膜的源，它必须满足两个条件：一是具有正交的电磁场;二是磁场方向要与阴极耙表面平行，并形成闭合的环形水平磁场。

　　自锁螺母溅射镀膜的基片温升取决于基片材料的热容量及得到的能量和散热失去能量的平衡，在基片材料及溅射装置确定的条件下，也即是散热条件基本不变的情况下，电子撞击及沉积原子带来的能量成为温升的主要因素。

　　(摘自于表面处理手册)