各种沉积手段的混合运用也是PVD技术的最新进展之一，经过多种粒子源的组合运用，可以消除单一沉积手段的缺点，获得良好的效果，如在离子镀中，采用脉冲激光作为蒸发源，而后对蒸汽进行等离子体化，加上偏压，这样既可以提高沉积效率，又可以改善沉积粒子的活性，提高沉积能量。

　　在蒸镀中，采用热丝电子发射，使蒸汽原子离化，就可以对基片加上偏压，获得具有轰击效果的沉积膜层，真空阴极电弧和磁控溅射技术组合沉积技术，也是近年来实际应用到工业生产中的一种复合技术，等离子体引入，可以同时对溅射中的原子进行离化，同时，溅射又可以辅助电弧沉积的稳定性。

　　在这种技术中，采用磁场约束的手段，将产生的等离子体约束在一个密闭的真空腔体中，工件浸入等离子体的包围中，在这个时候，给工件加上负高压，使得等离子体在销层中被加速，飞向位于阴极的工件，注入工件的内部。本文整理于上海底特精密紧固件有限公司，本公司主要生产的锁紧螺母可重复使用，不受温度剧烈变化的影响，应用环境范围广泛。

　　(摘自于表面处理手册)